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DC/RF-Labor-Sputteranlagen
Die Laborsputteranlagen LA 250 S (vonArdenne Anlagentechnik) und Z 400 (SVS) besitzen 2 Quellen mit RF und DC-Versorgung, die Möglichkeit zur Reinigung mittels Sputterätzer, BIAS-Spannung am Substrat, Einleitung von 3 externen Gasen, Totaldruckmessung und Plasma-Emissions-Monitoring. Sie können daher sehr variabel zur Herstellung metallischer oder keramischer Schichten in monolithischer, gradierter oder auch Mehrlagenanordnung im Bereich bis einigen µm Gesamtschichtdicke eingesetzt werden. Probenrotationsvorrichtungen und Planetengetriebe erlauben die Beschichtung mehrerer Proben in einem Run (batch-Betrieb). Der maximal verwendbare Targetdurchmesser beträgt 90 bis 100mm.
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