DC/RF-Labor-Sputteranlagen

DC/RF-Labor-Sputteranlage

Die Laborsputteranlage LA 250 S (vonArdenne Anlagentechnik) besitzt 2 Quellen mit RF und DC-Versorgung (600 und 1500 W), die Möglichkeit zur Reinigung mittels Sputterätzer, BIAS-Spannung am Substrat, Einleitung von 3 externen Gasen, Totaldruckmessung und Plasma-Emmissions-Monitoring. Sie kann daher sehr variabel zur Herstellung metallischer oder keramischer Schichten in monolithischer, gradierter oder auch Mehrlagenanordnung im Bereich bis einigen µm Gesamtschichtdicke eingesetzt werden. Probenrotationsvorrichtungen und Planetengetriebe erlauben die Beschichtung mehrerer Proben in einem Run (batch-Betrieb). Der maximal verwendbare Targetdurchmesser beträgt 90mm.