DC/RF-Labor-Sputteranlagen



 

DC/RF-Labor-Sputteranlage
 

Die Laborsputteranlage LA 250 S (vonArdenne Anlagentechnik) besitzt 2 Quellen mit RF und DC-Versorgung (600 und 1500 W), die Möglichkeit zur Reinigung mittels Sputterätzer, BIAS-Spannung am Substrat, Einleitung von 3 externen Gasen, Totaldruckmessung und Plasma-Emmissions-Monitoring. Sie kann daher sehr variabel zur Herstellung metallischer oder keramischer Schichten in monolithischer, gradierter oder auch Mehrlagenanordnung im Bereich bis einigen µm Gesamtschichtdicke eingesetzt werden. Probenrotationsvorrichtungen und Planetengetriebe erlauben die Beschichtung mehrerer Proben in einem Run (batch-Betrieb). Der maximal verwendbare Targetdurchmesser beträgt 90mm.

 


Kontakt
Jörg Brien
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt (DLR)

Institut für Werkstoff-Forschung
, Hochtemperatur- und Funktionsschichten
Tel: +49 2203 601-2541

E-Mail: Joerg.Brien@dlr.de
Andreas Handwerk
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt (DLR)

Institut für Werkstoff-Forschung
, Hochtemperatur- und Funktionsschichten
Tel: +49 2203 601 2645

E-Mail: Andreas.Handwerk@dlr.de
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http://www.dlr.de/wf/desktopdefault.aspx/tabid-2190/3207_read-4825/